0574 630970620574 63097062
描述：高精度低溫恒溫槽應用范圍：對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
廠商性質
生產廠家更新時間
2024-07-10訪問量
8621
詳細介紹
| 產地 | 國產 | 產品新舊 | 全新 |
|---|---|---|---|
| 結構類型 | 箱式,立式 | 溫度 | 低溫冷水機 |
| 結構類型 | 箱式,立式 |
| 型號 | 溫度范圍（℃） | 溫度均勻度(水平/垂直℃) | 內 槽尺寸（mm） | 總容量（L) | 工作槽開口 (mm2) | 制冷量（W） 20℃時純水 | 外循環(huán)泵流量 |
| (長X寬X槽深度) | (L/min) | ||||||
| GDH-0506 | -5~100 | ±0.0020 | 275×195×120 | 6 | 180×140 | 600 | 6 |
| GDH-0510 | -5~100 | ±0.0020 | 275×195×180 | 10 | 180×140 | 900 | 6 |
| GDH-0515 | -5~100 | ±0.0020 | 300×250×200 | 15 | 235×160 | 1500 | 6 |
| GDH-0520 | -5~100 | ±0.0020 | 300×250×270 | 20 | 235×160 | 2000 | 6 |
| GDH-0530 | -5~100 | ±0.0020 | 440×325×210 | 30 | 310×280 | 2700 | 6 |
| GDH-0550 | -5~100 | ±0.0020 | 500×340×300 | 50 | 350×300 | 4000 | 6 |
| GDH-05100 | -5~100 | ±0.0020 | 625×400×400 | 100 | 400×380 | 7000 | 6 |
| GDH-1006 | -10~100 | ±0.0020 | 275×195×120 | 6 | 180×140 | 800 | 6 |
| GDH-1010 | -10~100 | ±0.0020 | 275×195×180 | 10 | 180×140 | 1200 | 6 |
| GDH-1015 | -10~100 | ±0.0020 | 300×250×200 | 15 | 235×160 | 1800 | 6 |
| GDH-1020 | -10~100 | ±0.0020 | 300×250×270 | 20 | 235×160 | 2300 | 6 |
| GDH-1030 | -10~100 | ±0.0020 | 440×325×210 | 30 | 310×280 | 3000 | 6 |
| GDH-1050 | -10~100 | ±0.0020 | 500×340×300 | 50 | 350×300 | 4300 | 6 |
| GDH-10100 | -10~100 | ±0.0020 | 625×400×400 | 100 | 480×380 | 7500 | 6 |
| GDH-2006 | -20~100 | ±0.0020 | 275×195×120 | 6 | 180×140 | 1200 | 6 |
| GDH-2010 | -20~100 | ±0.0020 | 275×195×180 | 10 | 180×140 | 1600 | 6 |
高精度低溫恒溫槽，又稱高精度低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環(huán)：通過泵對槽內液體介質的循環(huán)吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進水口，是將槽內恒溫介質外引，建立外部恒溫場。
的應用領域：
生化領域：旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
產品特點：
節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源。
效率更高——一臺循環(huán)水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。
控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數(shù)字顯示，操作直觀
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其zui低溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。
應用范圍：
對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。
常見問題解答：
1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現(xiàn)在制冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯？
答：水循環(huán)使用很簡單，但是定期的維護保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走，如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。
2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多，這是什么原因？
答：前面提到過水循環(huán)的日常維護工作，這個問題也與之有關。大家都知道，水里面有很少部分的雜質，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點雜質都沒有。對于水循環(huán)而言，一般溫度都設置在20℃，特別適應微生物的生長和繁衍。時間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢，水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作，定時清洗內槽，長期停用，保持槽內干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時地面一會兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來說在正常使用的過程中，水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話，打開空調降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產生。
產品咨詢
當前位置：